铝钪合金Al-Sc溅射靶材的优势及应用(一文介绍) / 开普饭

从本世纪六十年代中期,国内外就开始了用金属氢化物作为储氢介质的研究,最终目的是为了解决氢能源的贮存问题,其研究的主要目标是寻找比重小.储氢量大.使用寿命长.能在常温下吸放氢和价格便宜的储氢材料.储氢材 ...

半导体行业常会见到一个词,靶材,半导体材料可以分为晶圆材料和封装材料,封装材料相较于晶圆制造材料来说技术壁垒相对较低.在晶圆的生产环节主要涉及7类半导体材料.化学品,其中就有一类是溅射靶材.那么靶材是 ...

[作者] 严意宏: [导师] 曾燮榕: [作者基本信息] 深圳大学 , 材料科学与工程, 2018, 硕士 [摘要] 块体非晶合金(BMG)具有优异的力学和耐腐蚀性能,已在多个领域获得应用,其中消费类 ...

近二十年来,人们对钪(Sc)作为一种合金元素在铝合金中的潜力的研究越来越感兴趣.过饱和Al-Sc合金在时效过程中形成有序的L12纳米级Al3Sc析出相,具有显著的强化和抑制再结晶作用.Si是铝合金中常 ...

金属靶材材质分类:镍靶.Ni.钛靶.Ti.锌靶.Zn.铬靶.Cr.镁靶.Mg.铌靶.Nb.锡靶.Sn.铝靶.Al.铟靶.In.铁靶.Fe.锆铝靶.ZrAl.钛铝靶.TiAl.锆靶.Zr.铝硅靶.AlS ...

钛铝合金是一种真空镀膜用合金溅射靶材,在该合金中通过调配钛与铝的含量可以获得不同特性的钛铝合金靶材.钛铝金属间化合物属于硬脆材料,具有很好的耐磨性,在普通刀具表面覆着一层钛铝金属间化合物,可以有 ...

PVD(Physical Vapor Deposition)技术是制备薄膜材料的主要技术之一,在真空条件下采用物理方法,将某种材料气化成气态原子.分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程 ...

溅射靶材的介绍溅射靶材是指通过磁控溅射.多弧离子镀或其他类型的镀膜设备在适当工艺条件下溅射沉积在基板上形成各种功能薄膜的溅射源.溅射靶材广泛应用于装饰.工模具.玻璃.电子器件.半导体.磁记录. ...

一.溅射准备保持真空腔体尤其是溅射系统洁净是非常重要的.任何由润滑油和灰尘以及前期镀膜所形成的残留物会收集水气及其他污染物,直接影响真空度获得和增加成膜失败的可能性.短路或靶材起弧,成膜表面粗糙及化学 ...

供应氧化铝(Al2O3)靶材,四氧化三铁Fe3O4靶材,镍酸镧(LaNiO3)靶材,氧化钪(Sc2O3)靶材氧化锌铝(AZO)靶材,氧化锡氟(FTO)靶材,铁酸镧(LaFeO3)靶材,钛酸锶(SrT ...

超大规模集成电路制造过程中要反复用到的溅射(Sputtering)工艺属于物理气相沉积(PVD)技术的一种,是制备电子薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在高真空中经过加速聚集,而形成高速 ...

溅射靶材是决定半导体良品率的最重要因素.所以半导体上的运用所需要的精密程度.纯度是最高的,溅射靶材的纯度和精密程度都会直接影响半导体性能,采用差的溅射靶材最直接的后果就是导致半导体短路,因此我们在谈半 ...

铝钪合金Al-Sc溅射靶材的优势及应用(一文介绍)