各种形状的氧化物陶瓷靶材-溅射薄膜材料的源极 / 开普饭

碳化钛中文名硼化钛英文名 Titanium Boride 中文别名二硼化钛二硼化钛物理化学性质密度 4.52 g/mL at 25 °C(lit.) 熔点 2900-3225ºC 分子式 ...

半导体行业常会见到一个词,靶材,半导体材料可以分为晶圆材料和封装材料,封装材料相较于晶圆制造材料来说技术壁垒相对较低.在晶圆的生产环节主要涉及7类半导体材料.化学品,其中就有一类是溅射靶材.那么靶材是 ...

问道十四五共话光热发展大计 ☝☝☝ 全球从化石燃料能源过渡到可持续能源,特别是太阳能,需要在能源储存方面取得突破.两步法太阳能热化学制氢(STCH)利用整个太阳能光谱,在没有贵金属催化的情况下工作, ...

氧化物燃料电池(SOFC)材料/PbTiO3/ZnO纳米复合材料/PbTiOs/CdS纳米复合材料-齐岳定制钙钛矿复合氧化物具有独特的晶体结构,尤其经掺杂后形成的晶体缺陷结构和性能,被应用或可被应用 ...

钙钛矿-聚合物(聚乳酸.聚已内酯.聚已内酯.聚丙烯酸.聚丙乙烯等) 稳定高效的聚合物掺杂钙钛矿电池研究发现,所有聚合物都能对钙钛矿进行有效的钝化,与聚合物的带隙无关.使用聚合物掺杂的器件能够提升10 ...

量子点是三维尺寸均在纳米尺度的半导体纳米晶体,在受到光电刺激时根据其组分和尺寸不同会发出不同颜色的光,由于量子点可作为纯净的光源,大幅提升显示色域,因而成为新型显示技术发展趋势. 常见的量子点材料包 ...

a相纳米氧化铝分散液基本信息: CAS:1344-28-1 性质:纳米氧化铝醇分散液可广泛应用于各种塑料.橡胶.陶瓷.涂料的补强增韧.纳米氧化铝醇分散液主要功能是提高材料的耐磨性和耐用性,硬度及其致 ...

氧分离膜与气敏材料/钙钛矿氧化物透氧膜材料/BaTiO_3/Graphene纳米复合材料氧分离膜与气敏材料钙钛矿型复合氧化物因其电子和氧离子导电性对氧有良好的吸附和脱附性能.高温下,当膜两侧存在氧 ...

供应氧化铝(Al2O3)靶材,四氧化三铁Fe3O4靶材,镍酸镧(LaNiO3)靶材,氧化钪(Sc2O3)靶材氧化锌铝(AZO)靶材,氧化锡氟(FTO)靶材,铁酸镧(LaFeO3)靶材,钛酸锶(SrT ...

超大规模集成电路制造过程中要反复用到的溅射(Sputtering)工艺属于物理气相沉积(PVD)技术的一种,是制备电子薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在高真空中经过加速聚集,而形成高速 ...

一.溅射准备保持真空腔体尤其是溅射系统洁净是非常重要的.任何由润滑油和灰尘以及前期镀膜所形成的残留物会收集水气及其他污染物,直接影响真空度获得和增加成膜失败的可能性.短路或靶材起弧,成膜表面粗糙及化学 ...

无机纳米西安齐岳生物科技有限公司将从零维/一维/二维/三维四个分类来提供几十个产品分类和几千种纳米材料产品,材料的材质包含金属纳米材料和非金属纳米材料以及他们的氧化物或碳化物及复合定制材料等等,产品粒 ...

金属靶材材质分类:镍靶.Ni.钛靶.Ti.锌靶.Zn.铬靶.Cr.镁靶.Mg.铌靶.Nb.锡靶.Sn.铝靶.Al.铟靶.In.铁靶.Fe.锆铝靶.ZrAl.钛铝靶.TiAl.锆靶.Zr.铝硅靶.AlS ...

在作为高技术制高点的芯片产业中,溅射靶材是超大规模集成电路制造的必需原材料.它利用离子源产生的离子,在高真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固 ...

PVD(Physical Vapor Deposition)技术是制备薄膜材料的主要技术之一,在真空条件下采用物理方法,将某种材料气化成气态原子.分子或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程 ...

溅射靶材的介绍溅射靶材是指通过磁控溅射.多弧离子镀或其他类型的镀膜设备在适当工艺条件下溅射沉积在基板上形成各种功能薄膜的溅射源.溅射靶材广泛应用于装饰.工模具.玻璃.电子器件.半导体.磁记录. ...

各种形状的氧化物陶瓷靶材-溅射薄膜材料的源极