株洲中车科研人员发表研究成果,揭示全球首个高压IGBT芯片的技术攻略!
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提高绝缘栅双极晶体管(IGBT)单芯片电流容量,对减小封装器件芯片并联数、简化封装结构、改善芯片均流至关重要。基于高压、大电流、高可靠性IGBT应用需求,新型功率半导体器件国家重点实验室、株洲中车时代电气股份有限公司、株洲中车时代半导体有限公司的研究人员刘国友、黄建伟、覃荣震、朱春林,在2021年第4期《电工技术学报》上撰文,通过高压IGBT芯片坚强元胞设计及其协同控制技术实现了元胞之间的开关同步,通过光刻拼版技术解决了大尺寸芯片的工艺制造,通过单芯片压接封装验证了大尺寸芯片设计及其性能,探索出一条大尺寸IGBT芯片设计、制造与验证的技术路径。
同时,他们开发了全球第一片42mm×42mm大尺寸高压IGBT芯片,攻克了高压IGBT芯片内部大规模元胞集成及其均流控制的技术难题,首次实现了4500V/600A单芯片功率容量,具备优良的动静态特性和更宽的安全工作区,并可以显著提高IGBT封装功率密度与可靠性。


影响芯片大尺寸化的另一个因素是IGBT芯片制造能力,包括光刻机曝光面积、工艺稳定性与良率水平。
一般说来,芯片尺寸越大,芯片的良率越低,所以要实现大尺寸芯片的量产,芯片工艺线必须稳定且维持比较高的良率水平。另一方面,光刻机曝光面积与光刻精度成反比,在确保一定光刻精度的情况下,步进和扫描光刻机曝光面积都会受到限制,一般6in光刻机曝光面积为16mm×16mm,8in光刻机曝光面积为22mm×22mm,一般光刻机曝光面积最大不超过26mm×33mm。综合考虑各种因素,常规IGBT芯片尺寸一般不会超过16mm×16mm,芯片电流、功率容量就会受到较大限制。

图1 IGBT元胞栅电阻和低时延栅极互连结构
基于U形元胞及其载流子存储层设计、多重缓冲层结合横向变掺杂集电极设计,株洲中车的研究人员实现了正背两面载流子注入的协同控制,高压IGBT通态损耗、关断能力与短路电流耐量得以同步优化,元胞鲁棒性更强;通过元胞栅电阻及低阻硅化钛互连网络设计创新,实现了元胞之间的开关同步和电流均衡;依托先进8in IGBT芯片制造成套工艺、光刻拼版与多重曝光技术,完成了42mm×42mm芯片制造;通过压接封装技术,实现了IGBT芯片的双面散热、失效短路、低感互连和长期可靠工作。探索出一整套大尺寸IGBT芯片设计、制造与封装技术。

图2 42mm×42mm IGBT芯片
同时,通过对大尺寸4500V/600A IGBT芯片进行系统的不同温度下的静、动态和安全工作区极限能力测试验证,大尺寸芯片元胞间的均流状况得到了很好的调控,保证了单个大芯片提供大电流的能力,在通态损耗、关断损耗与短路电流能力三者折中关系上明显优于常规设计和国外同类产品。就单芯片性能对比来说,大尺寸4500V/600A IGBT芯片在RBSOA和SCSOA极限能力上也优于国外小尺寸4500V/40A压接型IGBT芯片。

图3 IGBT元胞栅电阻和低时延栅极互连结构

图4 IGBT元胞栅电阻和低时延栅极互连结构
